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  • 2019

    5-22

    光學(xué)膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀FR的工具基于白光反射光譜(Reports),準(zhǔn)確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應(yīng)用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案,如:半導(dǎo)體、有機(jī)電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學(xué)傳感……FR-pRo系列

  • 2019

    4-28

    Dake壓片機(jī)維護(hù)保養(yǎng)要注意的方方面面Dake壓片機(jī)的輕微故障如何快速檢查和處理:壓片機(jī)是壓片的重要設(shè)備之一,也是目前國內(nèi)大中小制藥企業(yè)用來制成片劑的到的設(shè)備,制藥壓片的它的主要用途是是將各種調(diào)制好的粉末或顆粒材料壓成規(guī)格不等的片狀,或者是各種異形狀,方便商家的運輸,人們的攜帶方便和使用簡單。Dake壓片機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)及備件Dake壓片機(jī)在使用過程中出現(xiàn)的故障,有相當(dāng)一部分是由于維護(hù)保養(yǎng)不及時所造成的,維護(hù)保養(yǎng)主要應(yīng)注意以下幾個方面:(1)對壓片室及時清場。Dake壓片機(jī)在連續(xù)...

  • 2019

    4-9

    目的:開發(fā)一種快速、準(zhǔn)確的生物分子層厚度評估方法測量的方法:引入WLRS用于測量各層的厚度,評價生物分子固定在固體表面上的有效性及其與相應(yīng)生物分子的后續(xù)反應(yīng)。特別研究了兔(RgG)和小鼠γ-球蛋白(MgG)的吸附及其與互補(bǔ)抗體的反應(yīng)。通過配備有0.35nm光學(xué)分辨率的VIS-NIR光譜儀和白光鹵素?zé)舻腇R-Basic進(jìn)行測量。基板是厚度約為1000nm的熱生長SiO2薄膜的硅晶片。結(jié)果:在圖1中,描述了在RGG–Antigg系統(tǒng)中不同層的光譜,其中顯示了由于不同生物分子層的結(jié)...

  • 2019

    4-9

    薄膜厚度均勻性和光學(xué)特性(N&K)是集成電路和MEMS制造過程中的一個關(guān)鍵參數(shù)。薄膜沉積控制可以產(chǎn)生高質(zhì)量的圖形,并確保在光刻步驟之后的器件性能。除了在半導(dǎo)體開發(fā)的步中對薄膜進(jìn)行檢查的必要性外,還需要在后階段進(jìn)行檢查,在這一階段進(jìn)行封裝(在集成電路頂部涂上一層涂層,以保護(hù)其免受物理損傷和腐蝕)。在這里,我們使用了FR-Scanner來繪制兩個商業(yè)光刻電阻的厚度圖,這兩個光刻電阻沉積在300毫米硅晶片上,用于封裝應(yīng)用。FR-Scanner是一種工具,用于自動表征硅和其他尺寸達(dá)4...

  • 2019

    4-9

    通過白光反射光譜(WLRS)和FR映射器繪制薄膜厚度目標(biāo):在大面積上表征薄膜厚度均勻性。測量方法:采用Fr-Basic與Fr-Mapper相結(jié)合的方法,在大面積的預(yù)定點上快速、準(zhǔn)確地測量薄膜厚度。當(dāng)樣品固定在一個Fr-Mapper上時,所有的測量都用一個Fr-Basic進(jìn)行調(diào)節(jié),使其在540-1000納米的光譜范圍內(nèi)工作。反射探頭的有效光斑直徑為0.5毫米。樣品是涂有SiO2(熱的或TEOS)和Si3N4(LPCVD)/SiO2(熱的)4英寸硅晶片。在參考測量中,使用了高反射...

  • 2019

    4-9

    鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發(fā)。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能,因此對它們進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態(tài)是影響太陽能電池性能的重要因素。特別地,人們發(fā)現(xiàn),當(dāng)鈣鈦礦的厚度小于400nm時,鈣鈦礦太陽能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度;而當(dāng)鈣鈦礦的厚度大于400nm時,效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態(tài)。在本應(yīng)用說明中,我們使用FR工具測量鈣鈦礦薄膜的厚度。測量方法:用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3PbBr3鈣鈦礦薄膜,它們位于標(biāo)準(zhǔn)ITO/...

  • 2019

    2-25

    WS1000濕法刻蝕機(jī)適用于哪些工藝行業(yè)中WS1000濕法刻蝕機(jī)是由全白色聚丙烯構(gòu)造,可內(nèi)置任何旋涂機(jī)及顯影機(jī),排放簡便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統(tǒng),可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備,WS1000濕法刻蝕機(jī)旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測試模塊構(gòu)造,安裝簡便,易于拆卸,更便于操作者控制。WS1000濕法刻蝕機(jī)工作原理:WS1000濕法刻蝕機(jī)具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),然后干燥(通常是氮...

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