等離子處理中哪種頻率效果好？中頻？射頻？微波？

KHz，中頻產(chǎn)生等離子體能量大，主要是物理作用；

MHz，射頻產(chǎn)生等離子體能量和密度居中, 為物理和化學(xué)作用；

GHz，微波產(chǎn)生等離子體能量小，密度高，主要為化學(xué)作用；

40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發(fā)頻率運(yùn)用：

激發(fā)頻率為40kHz的等離子體即超聲等離子體清洗是以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響大，因而實際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗。而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果超好。典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊使表面清潔。

激發(fā)頻率為13.56MHz的微波等離子體是典型的等離子體化學(xué)清洗工藝，是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫姡菀着c碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。主要用于科研方面及實驗室。

不同頻率下電子密度對比圖：