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MYCRO*美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner)，是*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

MYCRO*美國(guó)NXQ光刻機(jī)（Mask Aligner），是*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)，已售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。